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潔淨室主要之作用在於控制產品(如矽晶片等)所接觸之大氣的潔淨度日及溫溼度☁▩•,使產品能在一個良好之環境空間中生產◕▩、製造☁▩•,此空間我們稱之為潔淨室₪✘₪◕。按照慣例☁▩•,無塵淨化級別主要是根據每立方米空氣中粒子直徑大於劃分標準的粒子數量來規定₪✘₪◕。潔淨室是指將一定空間範圍內空氣中的微粒子◕▩、有害空氣◕▩、細菌等汙染物排除☁▩•,並將室內溫度◕▩、潔淨度◕▩、室內壓力◕▩、氣流速度與氣流分佈◕▩、噪音振動及照明◕▩、靜電控制在某一需求範圍內☁▩•,而所給予特別設計的房間₪✘₪◕。亦即是不論外在之空氣條件如何變化☁▩•,其室內均能俱有維持原先所設定要求之潔淨度◕▩、溫溼度及壓力等效能之特性₪✘₪◕。
潔淨室主要之作用在於控制產品(如矽晶片等)所接觸之大氣的潔淨度日及溫溼度☁▩•,使產品能在一個良好之環境空間中生產◕▩、製造☁▩•,此空間我們稱之為潔淨室₪✘₪◕。按照慣例☁▩•,無塵淨化級別主要是根據每立方米空氣中粒子直徑大於劃分標準的粒子數量來規定₪✘₪◕。也就是說所謂無塵並非沒有一點灰塵☁▩•,而是控制在一個非常微量的單位上₪✘₪◕。當然這個標準中符合灰塵標準的顆粒相對於我們常見的灰塵已經是小的微乎其微☁▩•,但是對於光學構造而言☁▩•,哪怕是一點點的灰塵都會產生非常大的負面影響☁▩•,所以在光學構造產品的生產上☁▩•,無塵是必然的要求₪✘₪◕。
每立方米將小於0.3微米粒徑的微塵數量控制在3500個以下☁▩•,就達到了無塵標準的A級₪✘₪◕。晶片級生產加工的無塵標準對於灰塵的要求高於A級☁▩•,這樣的高標主要被應用在一些等級較高晶片生產上₪✘₪◕。0.5uM及以下的微塵數量被嚴格控制在每立方英寸1000個以內☁▩•,這也就是業內俗稱的1K級別₪✘₪◕。潔淨室的設計要求介紹
隨著生產對潔淨室的需求越來越多☁▩•,對潔淨室裝修工程的潔淨度要求也越來越高☁▩•,如何把握好每個施工工序☁▩•,是能否達到設計要求潔淨度的重要因素₪✘₪◕。能達到多高潔淨室潔淨度級別也成了衡量一個施工企業能達到多高的施工質量高度的一個因素₪✘₪◕。
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